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連續生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
用于在一定的真空或惰性氣氛條件下，利用電阻發熱以一定的升溫速率將爐內工件加熱到一定溫度，使C/C復合材料預浸物炭化。
用于在真空或惰性氣體介質條件下，對預制體的高溫預處理及C/C復合材料的高溫熱處理。
設備溫區大小可根據客戶實際需求定制。
