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真空熱處理系列
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HIP熱等靜壓系列
· HIP熱等靜壓設備
不銹鋼管（高端能源、EP潔凈）專用熱處理系列
· VQG系列大型立式真空高壓固溶時效成套設備（直管、盤管）
· VCHF系列真空連續熱處理設備（直管、盤管）
· EP管專用熱處理套設備（直管）
· VQG系列底裝式高壓固溶設備（盤管、直管）
鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列
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· VHSF系列真空高溫石墨化爐
連續生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：用于粉末成型、預織成型工件的脫脂，也可用于高溫加壓燒結、浸滲增強、晶體轉化生長、化合反應等工藝，采用電阻加熱。
優勢和特點：
工作溫度從常溫到3000℃，壓力從5MPa到200MPa，可廣泛滿足硬質合金、3D打印、特種陶瓷、復合材料、電子、化工等領域的要求。
可選項：可根據客戶實際需求定制。
